国产光刻机再突破！哈工大扛大旗，狠抽ASML脸
今日战报，聚焦一场没有硝烟却关乎国运的科技“突围战”——东大光刻军团，正以雷霆之势撕碎封锁线，剑指芯片制造的王冠明珠！笔者将带您直击前线，解析这场由哈工大扛旗、多路精锐协同的“换道超车”大捷。
一、敌情通报：ASML的铁幕与嘲讽
曾几何时，光刻巨头ASML睥睨天下，其高管放言：“即便图纸公开，尔等亦难造出！” 更以技术铁幕，妄图将东大锁死在芯片产业链的底层。欧美联手构筑“封锁联合”，尤以光源、双工件台、物镜系统为“绞索”，欲扼杀东大半导体之咽喉。此等轻蔑，无异于对东大科技尊严的炮火覆盖！
二、正面强攻：哈工大光源“亮剑”，13.5纳米轰开EUV大门！
当世人以为东大只能“循规蹈矩”时，哈工大祭出“奇招”——DPP（放电等离子体）光源路线！此技独辟蹊径，避开ASML主导的LPP（激光等离子体）技术壁垒。笔者获悉，哈工大团队以“航天血统”跨界赋能，将尖端放电等离子体技术淬炼至极致，成功点亮13.5纳米极紫外（EUV）光！ 此光，正是叩开EUV光刻圣殿的“密钥”！
技术硬核： 哈工大采用粒子加速辐射获取极紫外光，与ASML透镜技术殊途同归，却显更高精准度。其研发的“高速超精密激光干涉仪”更为光源国产化贴上最后一块拼图，测量精度可回溯源头，奠定量产基石！
战略意义： 光源乃EUV光刻机最核心、最难攻克的“要塞”。此役告捷，标志着东大首次在EUV核心子系统实现自主可控！ASML的沉默，已是最直白的震惊！
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